FIB制样/第三方检测/铄思百检测

仪器名称：

FIB制样

型    号：

FEI Helios Nanolab 600i

FIB制样检测项目：

利用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工，配合电镜（SEM或TEM）实时观察，进行纳米级分析。

FIB制样应用范围：

利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的离子束轰击材料表

面，实现材料的剥离、沉积、注入、切割和改性。广泛应用于

半导体集成电路修改、离子注入、切割和故障分析等。

FIB制样制样要求：

1.样品大小5×5×25px，当样品过大需切割取样。

2.样品需导电，不导电样品能喷金增加导电性。

3.切割深度小于50微米。

4.易氧化，易潮样品需备注说明，沟通。

FIB制样制样测试流程 1、客户提出测试要求（在线预约） 2、细节沟通（电话沟通） 3、下载填写测试委托单 4、测试委托单和样品邮寄 5、联系客服付款 6、安心等待 7、接受数据发票 8、后期服务

以上是FIB制样制样的相关介绍，如有其它检测需求可以咨询实验室工程师，为您一对一服务。